真(zhen)密度(True Density )指材料(liao)在絕(jue)對密實狀態下的(de)(de)體積(ji)(ji)內(nei)固體物質的(de)(de)實際體積(ji)(ji),不包括內(nei)部孔隙或者顆粒(li)間的(de)(de)空(kong)隙(叫(jiao)真(zhen)密度)。與(yu)之相對應(ying)的(de)(de)物理性質還有表(biao)觀密度和(he)堆積(ji)(ji)密度。
Microtrac MRB全新設計的全自動真密度分析儀BELPYCNO采用氦氣、氮氣和SF6 等惰性氣體做為置換介質。樣品密封在已知體積的樣品室中,一定壓力的惰性氣體進入樣品室,然后氣體膨脹到另外一個膨脹室中。膨脹前后的壓力由傳感器測定并計算得到樣品的體積,用樣品稱重的質量除以測定出來的體積得到樣品的真密度。
• 配件室(shi)內置(zhi)在儀器主機(ji)里,方(fang)便用戶取用
• 不(bu)同尺寸(cun)的校(xiao)準(zhun)球(qiu)和樣品(pin)室(shi)、夾取鑷子(zi)存放(fang)在配(pei)件室(shi)中
• 儀(yi)器(qi)帶有安全閥(fa)設計(ji),過高進氣壓力通過安全閥(fa)排氣來降低
精度 | ±0.03%(F.S. of readings) |
重復性 | ±0.02%(F.S. of 10cc) |
測量溫度范圍 | 15°C~35°C 15°C~50°C(需要配備恒溫槽系統) |
測量壓力范圍 | 大氣層~150千帕 |
Microtrac MRB:作為一個顆粒表征解決方案的供應商,提供三條產品線,在三大洲擁有研發和技術中心。
散射光分折: Microtrac MRB作為粒度測量的通用方法—靜態激光衍射法的領導者,還提供的(de)動態(tai)光散射納米(mi)粒(li)度儀,用于納米(mi)顆粒(li)的(de)表征。該產(chan)(chan)品(pin)線(xian)的(de)開發和生產(chan)(chan)地點位于美國的(de)賓夕法尼(ni)亞(ya)州。
圖像分析: Microtrac MRB基于動態圖像分析技術,為顆粒大小和形態的測定提供了高質量的PartAn系列測量系統。這些圖像分析儀的開發和生產地點位于德國的哈恩。
比表(biao)面和孔(kong)徑(jing)測量(liang): Microtrac MRB的另外一條產品線采用氣體吸附法為粉體樣品的比表面值,BET值和孔徑測量提供了吸附系列的分析儀器。開發和生產以及裝配地點位于日本大阪的表面分析中心。